“采用的是13.5nm的极紫外光？”
“怎么可能，我前两天才刚刚看的新闻，尼康公司的光刻机，也才在准备进发32nm半导体工艺，而光源依旧用的是193nm的深紫外光啊！”
“是啊，曝光波长一下子降到13.5nm，这岂不是意味着……它能够把光刻技术扩展到32nm以下的特征尺寸了！！！”
“苏总，您别不是在逗我们开心啊，现在全球范围内，绝对没有任何一家半导体公司，能造出这样的设备！”
“苏总，这到底是真是假啊！”
几名远扬半导体的高层，一个个都红着眼眶，把目光不断在苏扬和光刻机的身上徘徊。
作为半导体制造业皇冠上的明珠，光刻机的意义不言而喻。
芯片在生产中需要进行20-30次的光刻，耗时占到IC生产环节的50%左右，占芯片生产成本的三分之一。
通常意义上来说，只要解决光刻机的问题，那么芯片制造的工程，就完结了一半。
因此，也不怪几个搞半导体的家伙，像是痴·汉一样看着他。
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